01소스 분석
소스
→톤 + 엣지
→마크
톤, 가장자리 및 배경 제어
단일 자동 변환을 허용하는 대신 대비, 감마, 임계값, 반전, 배경 무시, 가장자리 강조 및 로컬 세부 정보를 조정합니다.
HoleSnap Pattern이미지 기반 패턴 편집기
원본 이미지를 조정 가능한 형상으로.
사진, SVG 또는 로고를 업로드하세요. 톤과 가장자리를 점, 하프톤 또는 천공 형상으로 매핑하고 필드를 구체화한 다음 PNG, SVG 또는 DXF를 내보냅니다.
브라우저 기반 · 시작 이미지 포함 · 벡터 내보내기에는 로그인이 필요합니다
HoleSnap Pattern작업공간 미리보기
예제 출력
생성된 패턴PNG · SVG · DXF
- 4
- 필드 레이아웃
- 톤
- 밝기 + 가장자리 매핑
- 3
- 출력 형식
패턴 소스
이미지의 특징은 유지하고 형상은 새로 구성하세요.
Pattern는 톤, 대비, 가장자리 및 전경 영역을 읽은 다음 구성 가능한 필드에서 해당 정보를 샘플링합니다. 결과는 소스 경로의 복사본이 아닌 새로 생성된 형상입니다.
Pattern에서 소스 매핑
01PNG02JPEG03WebP04SVG 소스05그리드06육각형07Staggered08Triangular09Tone mapping10Edge emphasis
워크플로 + 핵심 제어
참조 이미지에서 편집 가능한 패턴 필드까지.
레이아웃, 매핑, 모양 및 출력 설정이 주변의 새로운 결과를 형성하는 동안 소스는 계속 표시됩니다.
- 01
소스를 선택하세요
이미지, SVG 또는 로고를 업로드하거나 내장된 시작 이미지로 시작하세요.
- 02
이미지 매핑
필드, 톤 응답, 임계값, 대비, 가장자리, 모양 및 세부 사항을 조정합니다.
- 03
확인하고 내보내기
생성된 마크와 출력 확인을 검토한 후 PNG, SVG 또는 DXF를 내보냅니다.
핵심 제어이미지가 패턴이 되는 방식을 제어합니다.
02필드 레이아웃
그리드
육각형
비틀거리다
트라이
샘플링 리듬 설정
그리드, 육각형, 엇갈린 필드 또는 삼각형 필드를 선택한 다음 피치, 밀도, 회전, 오프셋 및 지터를 조정합니다.
03역할 형성
주요 마크엣지 역할
이미지를 디자인된 마크로 매핑
원, 정사각형, 다이아몬드 또는 삼각형을 사용하고 소스 톤이 크기, 고정된 기하학 또는 빛의 무작위 변화를 제어하는 방법을 결정합니다.
04레시피 및 사전 설정
장면 팩Logo StudioPortrait StippleFacade Screen
→스타일Classic DotsHex Mosaic
→출력PNGSVGDXF
의도한 출력에 더 가깝게 시작하세요.
로고, 인물 사진, 인쇄 그래픽, 패널 및 화면에 대한 최신 장면 팩, 스타일 사전 설정 및 출력 레시피를 사용합니다.
출력 측정항목 예시
생성 마크3,969
위에 표시된 플랜트 예의 예시 수입니다.
필드 간격11.0mm
동일한 예제 레시피의 예시적인 간격입니다.
매핑 피드백
현재 레시피가 만든 결과를 확인하세요.
여기에 표시된 값은 정적 작업 공간 예에서 나온 것입니다. Pattern 내부에서는 구멍 수, 개방률, 피치, 미리보기 및 내보내기 확인이 활성 소스 및 설정에 반응합니다. 아래 관련 도구는 별도로 열리며 현재 Pattern 프로젝트를 읽지 않습니다.
Pattern 사전 설정 및 검사는 제조 인증이 아닌 설계 참조입니다. 생산 전에 간격, 최소 기능, 규모 및 재료 제약 조건을 확인하십시오.Scene Pack 예
현재 제공되는 Pattern 장면 팩 4종과 출력 예시.
각 예는 현재 Pattern에서 선택 가능한 Scene Pack에 해당하며 애플리케이션의 현재 소스 매핑, 레이아웃, 모양 역할 및 출력 확인을 사용합니다.
01
Logo Studio
고대비 로고를 매핑하거나 생성된 점 및 가장자리 모양 역할에 마크를 매핑한 다음 PNG, SVG 또는 DXF 출력을 준비합니다.
02
Portrait Stipple
Portrait Stipple Scene Pack를 적용한 다음 대비, 감마, 배경 무시, 가장자리 강조 및 로컬 디테일을 사용하여 얼굴 구조를 유지합니다.
03
Apparel Print
Apparel Print Scene Pack 및 인쇄 중심 도트 사전 설정을 사용하여 패브릭 또는 그래픽 소스를 매핑된 필드로 변환합니다.
04
Facade Screen
엔지니어링 검토 전에 16진수 필드, 기본 및 가장자리 모양 역할, 실시간 개방률 피드백과 함께 Facade Screen Scene Pack를 사용하세요.
출발점을 선택하세요
Pattern은 이미지 기반 형상에 적합합니다.
HoleSnap의 세 가지 애플리케이션은 내보내기 중심의 워크플로를 공유하지만 각각은 서로 다른 종류의 소스로 시작됩니다.
HoleSnap Pattern
이미지 매핑, 하프톤, 도트 필드, 모양 역할 및 PNG, SVG 또는 DXF 출력.
Open Pattern ↗HoleSnap Mesh
정확한 배열, 재사용 가능한 기하학, 그라데이션, 경계 및 엔지니어링 중심 출력.
Mesh 탐색 ↗HoleSnap Flow Scene
생성기별 제어를 통한 결정론적 유기 셀 및 흐름선 형상.
Flow Scene 탐색 ↗Pattern FAQ
업로드하기 전에.
Pattern의 소스 처리, 출력, 확인 및 제품 경계에 대한 짧은 버전입니다.
01HoleSnap Pattern에서는 어떤 소스 파일을 사용할 수 있나요?+
Pattern는 이미지 소스로 사용되는 PNG, JPEG, WebP 및 SVG 파일을 허용합니다. 내장된 시작 이미지로 시작할 수도 있습니다.
02Pattern는 업로드된 SVG의 경로를 보존합니까?+
아니요. Pattern는 SVG를 이미지 소스로 샘플링하고 새로운 도트, 하프톤 또는 천공 형상을 생성합니다. 무손실 SVG 경로 변환기가 아닙니다.
03Pattern에서 무엇을 내보낼 수 있나요?+
Pattern supports PNG preview output plus SVG and DXF vector exports. SVG 및 DXF 내보내기에는 로그인이 필요하며 현재 할당량 및 기하 도형 제한이 적용됩니다. Pattern는 현재 STP 또는 STEP를 내보내지 않습니다.
04모든 이미지가 자동으로 제작 준비가 되나요?+
아니요. 자동 분석 및 사전 설정은 시작점을 제공하지만 전경 분리, 대비, 간격, 브리지 폭 및 최소 기능에는 여전히 수동 조정 및 제작 검토가 필요할 수 있습니다.
05Pattern는 Mesh 및 Flow Scene와 어떻게 다릅니까?+
Pattern는 이미지, SVG, 로고, 사진 또는 그래픽에서 시작됩니다. Mesh는 정확한 매개변수와 재사용 가능한 형상에서 시작됩니다. Flow Scene starts from an organic Cell or Flow generator and a reproducible seed.
HoleSnap Pattern
참조 이미지를 가져와, 새로운 패턴을 만드세요.
이미지로 시작하여 중요한 시각적 정보가 무엇인지 결정하고 인쇄, 벡터, CAD 또는 패널 워크플로에 맞게 계속 조정할 수 있는 형상을 생성합니다.
Pattern로 시작